Stay Well Deep Cleansing Bubble Mask – PEACH, 20 g

Pórusok mélyéig ható arctisztítás és friss bőrérzet

Új!

1.800 Ft

(90.000 Ft / kg, 27% áfával - Szállítási díjak )

Tartalom: 20 g

Raktáron ettől: október 05.

Miért tart hosszabb ideig?

Miért tart hosszabb ideig? Ez a termék jelenleg nincs raktáron, azonban hamarosan elérhető lesz. Rendeljen most - a terméket a szállítmány megérkezése után azonnal küldeni fogjuk. Megjegyzés bezárása

Kiszállítás október 06., kedd-ig

Szállítás és kézbesítés - További információk

Tulajdonságok és előnyök

  • Minden bőrtípusra
  • Őszibarack- és ánizskivonattal
  • Tisztító oxigénbuborékokat képez
Leírás

A Stay Well Deep Cleansing Bubble Mask – PEACH lemosható fátyolmaszk minden bőrtípusra, amely gyengéd és alapos arctisztítást tesz lehetővé. Oxigénbuborékokat képez, amelyek pórusok mélyéig eltávolítják a szennyeződéseket, és tiszta bőrérzetet hagynak maguk után.

Minden előny egy pillantásra:

  • Minden bőrtípusra: Gyengéd és alapos arctisztítást biztosít minden bőrtípus számára.
  • Oxigénbuborékok: Pórusok mélyéig ható tisztítást biztosítanak, és megbízhatóan eltávolítják a szennyeződéseket.
  • Gyümölcsös formula: Az őszibarack-gyümölcsvíz friss megjelenést kölcsönöz a bőrnek.
  • Antioxidáns kivonat: Antioxidáns tulajdonságokkal rendelkező ánizsgyümölcs-kivonatot tartalmaz.
  • Egyszerű használat: Könnyű és egyszerű alkalmazásával győz meg.
Cikkszám: MUE-12060
Tartalom: 20 g
EAN: 4745090048452
Gyártói szám: 12060
Márkák: Stay Well
Bőrtípus: minden bőrtípusra
Alkalmazás: Helyezze a szövetmaszkot megtisztított arcára. 10-15 perces hatóidő után távolítsa el a maszkot, és finoman masszírozza el a mardványt. Ezután használja a megszokott arcápolót.
Összetevők (INCI)

Aqua, Disiloxane, Glycerin, Methylpropanediol, Potassium Cocoyl Glycinate, Acrylates Copolymer, Potassium Cocoate, Sodium Cocoyl Apple Amino Acids, Prunus Persica (Peach) Fruit Water, Illicium Verum Fruit Extract, Allantoin, Dipotassium Glycyrrhizate, Xanthan Gum, Tromethamine, Hydroxyacetophenone, Disodium Edta, Sodium Benzoate, Hexylene Glycol, Tetrasodium Glutamate Diacetate, Butylene Glycol, 1.2-Hexanediol, Parfum, CI 77891 (Titanium Dioxid), CI 77491 (Red Iron Oxide)

Hasonló termékek

  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder

Vásárlói vélemények

Vásárlói vélemény magyar nyelven: Stay Well Deep Cleansing Bubble Mask – PEACH

Kapcsolódó termékek

  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder